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非標(biāo)方管的鍍層控制應(yīng)該是怎樣的

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非標(biāo)方管的鍍層控制應(yīng)該是怎樣的

發(fā)布時(shí)間:2020/4/24 11:42:46人氣:49

  一種實(shí)現(xiàn)非標(biāo)方管連續(xù)差厚鍍層的流鍍裝置

  實(shí)用新型涉及冶金連鑄機(jī)結(jié)晶器,特別涉及方坯管式結(jié)晶器(本 文稱(chēng)非標(biāo)方管)及組合式結(jié)晶器內(nèi)壁連續(xù)差厚鍍層的電鍍裝置。

  煉鋼連鑄機(jī)用非標(biāo)方管的內(nèi)壁鍍層目前仍沿用等厚電鍍工藝。 由于非標(biāo)方管的技術(shù)要求,其上端(即鋼水入口處)鍍層應(yīng)相對(duì)減 薄,使鋼水熱量能迅速散失,而鋼水在流進(jìn)非標(biāo)方管入口至三分之 一處逐步形殼成錠后鍍層應(yīng)相應(yīng)增厚,以克服鋼錠滑動(dòng)磨擦的損耗。 無(wú)疑等厚鍍層難以滿(mǎn)足上述要求。為此,非標(biāo)方管的過(guò)鋼量很難大 幅度提高。沿用等厚鍍層的主要原因是非標(biāo)方管內(nèi)壁鍍層上薄下厚 的加工要求(因其四個(gè)棱角為弧度設(shè)計(jì))一般機(jī)加工設(shè)備很難完成。

  本實(shí)用新型的目的是提供一種實(shí)現(xiàn)非標(biāo)方管連續(xù)差厚鍍層的 流鍍裝置,采用鍍液在結(jié)晶器內(nèi)流動(dòng)時(shí)進(jìn)出鍍液等量分流的辦法,使結(jié) 晶器中鍍液液位按設(shè)計(jì)要求逐漸連續(xù)下降,從而實(shí)現(xiàn)連續(xù)差厚鍍層。

  本實(shí)用新型的目的是這樣實(shí)現(xiàn)的:本實(shí)用新型提供一種鍍液液位 可以控制的流鍍裝置,包括流鍍系統(tǒng)、控制系統(tǒng)和電源三個(gè)部分組成。

  按照本實(shí)用新型所述流鍍系統(tǒng)由鍍液儲(chǔ)糟、入口泵、進(jìn)液閥、入 口流量計(jì)、下流鍍罩、非標(biāo)方管、陽(yáng)極、上流鍍罩、溢流口、溢流 閥、出口流量計(jì)及連通管道共同組成一個(gè)封閉的鍍液流動(dòng)系統(tǒng),其特 征在于:非標(biāo)方管作為電鍍?cè)恪⒔?jīng)上、下流鍍罩密封固定后,下流 鍍罩經(jīng)進(jìn)液口、管道與入口流量計(jì)對(duì)接,下接進(jìn)液閥、入口泵。上流 鍍罩經(jīng)溢流口、溢流管與溢流閥對(duì)接、再接出口流量計(jì)、鍍液儲(chǔ)槽。

  按照本實(shí)用新型所述控制系統(tǒng)由入口流量計(jì)、出口流量計(jì)和分流 流量計(jì)共同組成,其特征在于:下流鍍罩的進(jìn)液口與入口流量計(jì)之間 安裝一個(gè)分流閥,分流閥下接分流流量計(jì),再經(jīng)管道接至鍍液儲(chǔ)糟。

  按照本實(shí)用新型所述控制系統(tǒng)、其特征在于虹吸管由陽(yáng)極引出、 經(jīng)上流鍍罩穿出后接虹吸閥,該虹吸管頂端最高點(diǎn)的高度低于溢流 口,且虹吸管、虹吸閥與溢流管、溢流閥并聯(lián)接至出口流量計(jì),再經(jīng) 管道接至鍍液儲(chǔ)糟。

  當(dāng)鍍液在流鍍系統(tǒng)中運(yùn)動(dòng)時(shí),由可手動(dòng)、自動(dòng)調(diào)節(jié)的高頻直流脈 沖電源(見(jiàn)專(zhuān)利ZL200620023685.2)對(duì)系統(tǒng)供電、完成對(duì)結(jié)晶器內(nèi) 壁的電鍍過(guò)程。本實(shí)用新型有以下積極效果:由于電鍍過(guò)程中鍍液在 一個(gè)以非標(biāo)方管為電鍍槽的封閉系統(tǒng)中運(yùn)動(dòng),不但大幅度減少鍍液 用量、避免鍍液揮發(fā)污染,而且可以在鍍液循環(huán)中控制非標(biāo)方管內(nèi)鍍液液位的平衡和升降,從而實(shí)現(xiàn)封閉容器中鍍層厚度的自動(dòng)控制。